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鈦絲廠家介紹鈦氧化鍍層厚度與電位之間的關係

2019-07-24

    實驗證明,在接近擊穿電壓之前,鍍層厚度按照小電解槽的電伍呈線性增加。在形成電壓值較大的條件下不保持線性。鈦絲廠家認為產生這種偏塞的原因不可能持續到最終。

    鍍層厚度與某形成電壓關係的研究結果,該鍍層是在堿性磷酸鹽電解液中進行鈦陽極氧化時根據形成電位而得到的。

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    鈦試樣是在下列條件下進行氧化的:

    質量濃度為I0g/L的磷酸鈉(NaiP04-12H20)水溶液,電解液溫度F15X;,氧化時間7min,在各種條件下的靜電位規範內進行氧化,足以 在所采用的形成電壓條件下達到最終的鍍層厚度。為了確定具有鍍層的試樣上所得到的鍍層厚度,曾經利用多孔塑料-65製造了顯微切片。


    並利用粒度0.lpn的金剛石資進行了研磨。在MBH-15的顯微鏡上,利用顯微鏡浸沒法測量鍍層的厚度,放大倍率為1500倍。測量結果示於圖 3.7.3之曲線1D如圖所示,在190V以下保持著線性關係再者曲線有一拐點。由離子通過鍍層加速轉移的緣故而使之在200V的區域內鍍層厚度強烈增 加。超過200V鍍層厚度減少是受下列反應的電化學溶解及化學溶解製約。


    在給定電壓條件下,於離子的上邊通過鍍層的電子轉移占優勢而發生溶解,而電子轉移則是由陽極上的氫氧化物和水的離子放電反應所確定的。在陽極區進行電解質的氧化以前,強化了反應過程的進行(見式3.7.6)。此時的電流輸出減少,在各種形成電位條件下,於陽極上根據氧分離出的實踐來判斷這種電流的減少。在 進一步提髙瞬間電壓的條件下,當鍍層的電場強度增加到足以實現由於質量轉換而引起鍍層(17,=280〜290V)的電火花擊穿時,那麽在與陽極火花過程 相對應的曲線區段上就可以觀察到塗層厚度的強烈增加。 


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